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光励起プロセスの基礎
プロセスの低温・無損傷化を実現
高橋清・松波弘之・村田好正・英貢
工業調査会
端日焼け有、カバー少擦れ・背退色有、天地小口少汚れ有、本文は概ね良…
¥ 1,000
半導体デバイス入門:その原理と動作のしくみ
柴田直
昭晃堂
カバー少擦れ。本文概ね良好。
¥ 2,900
ロジックLSI技術の革新
前口賢二・福間雅夫・浅井外寿 編集
サイエンスフォーラム
小口汚れ。ケースカド擦れ。本文概ね良好。
¥ 3,000
結晶成長の基礎
西永頌編著
アドバンストエレクトロニクスシリーズⅠ-18
培風館
少ヤケ有、天地小口シミ汚れ有、カバー端少傷み有、本文マーカー等書き…
¥ 5,000
SOI構造形成技術
古川静二郎編著
集積回路プロセス技術シリーズ
産業図書
裸本。少ヤケ有、少擦れ有、本文は概ね良好です。
¥ 1,300
CMOSデバイスハンドブック
同編集委員会編
日刊工業新聞社
ケース汚れ擦れ・口部傷み。本文概ね良好。
¥ 15,000
スパッタ技術
和佐清孝・早川茂
共立出版
天小口薄く汚れ。カバーに汚れ擦れ・破れ傷み有。本文概ね良好。
¥ 3,000
最新電源用IC規格表1992年度版
藤たかし編
半導体規格表シリーズ16
CQ出版
擦れ・傷・ヤケ・シミ有
¥ 1,500
超LSI時代の半導体技術100集 Ⅳ
庄野克房
エレクトロニクス文庫22
オーム社
日焼け・擦れ・少汚れ有。本文はきれいな状態です。
¥ 800
オリジンの技術 半導体編
(オリジン電気25年誌)
オリジン電気25周年記念誌編集委員会(編集)
オリジン電気
箱擦れ・傷・シミ大、箱&見返し印消し跡有、本文少ライン有
¥ 2,000
アモルファス半導体
清水立生
アドバンストエレクトロニクスシリーズⅠ- 2
培風館
天小個人印消し跡有、本文概ね良
¥ 6,000
半導体回路マニュアル
宇都宮敏男
オーム社
日焼け有、函汚れ・擦れ有、本文は概ね良好。
¥ 3,000
最新ダイオード規格表1996年版
時田元昭
最新半導体規格表シリーズ 3
CQ出版
擦れ、日焼け、角少傷み、表紙少折れ、天地にやや汚れ、本文は概ね良好…
¥ 2,000
シリコン系ヘテロデバイス
古川静二郎・雨宮好仁
丸善
天小口少汚れ。カバー日焼け汚れ・カド縁擦れ有。本文概ね良
¥ 1,500
進化する有機半導体
有機エレクトロニクス創成へ向けた光・電子機能デバイスへの応用最前線
エヌ・ティー・エス
函少擦れ有、その他概ね良好。
¥ 5,000
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